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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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濺射技術：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
背靶的選擇
對材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右
導電性好：常用無氧銅，哪家有金圓柱靶，無氧銅的導熱性比紫銅好；
強度足夠：太薄，遼寧金圓柱靶，易變形，不易真空密封。
結構要求：空心或者實心結構；
厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺上，升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
任何金屬都不能達到純。“超純”具有相對的含義，是指技術上達到的標準。
由于技術的發(fā)展，也常使 “超純”的標準升級。“超純”的相對名詞是指“雜質(zhì)”，金圓柱靶哪家好，廣義的雜質(zhì)是指化學雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”（晶體缺陷），后者是指位錯及空位等，而化學雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。
但只當金屬純度達到很高的標準時（如純度9以上的金屬），物理雜質(zhì)的概念才是有意義的，因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學雜質(zhì)的含量作為標準，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。
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第9年
