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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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熱壓法：ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后，金蒸發(fā)鍍靶材報(bào)價(jià)，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓，同時(shí)以1000℃～1600℃進(jìn)行燒結(jié)。熱壓工藝制作過程所需的成型壓力較小，金蒸發(fā)鍍靶材加工，燒結(jié)溫度較低，燒結(jié)時(shí)間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均勻，從而影響了生產(chǎn)ITO薄膜的均勻性，且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光中，金蒸發(fā)鍍靶材，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
精鋁經(jīng)過區(qū)熔提純，只能達(dá)到5 的高純鋁，但如使用在有機(jī)物電解液中進(jìn)行電解，可將鋁提純到99.9995%，并可除去有不利分配系數(shù)的雜質(zhì)，然后進(jìn)行區(qū)熔提純數(shù)次，就能達(dá)到接近于 7 的純度，金蒸發(fā)鍍靶材價(jià)格，雜質(zhì)總含量
制備化合物半導(dǎo)體的金屬如銦、磷，可利用氯化物精餾氫還原、電解精煉、區(qū)熔及拉晶提純等方法制備超純金屬，總金屬雜質(zhì)含量為 0.1～1ppm。其他金屬如銀、金、鎘、、鉑等也能達(dá)到≥6 的水平。
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第9年
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